Aproximación de Parámetros Físicos en Silicio Poroso Infiltrado con Óxido de Titanio
Palabras clave:
silicio poroso, electrólisis, óxido de titanio, SiH, SiO
Resumen
Se estudia el sistema silicio poroso infiltrado con óxido de titanio mediante espectroscopia infrarroja con transformada de Fourier (FTIR), fotoluminiscencia (FL), microscopia electrónica de barrido (SEM) y espectroscopia de rayos X por dispersión en energía (EDS). Con los resultados de la caracterización y utilizando un modelo propuesto en la literatura se determinaron los parámetros del material, como tamaño de partícula de silicio residual, diámetro de poro, densidad de la capa porosa, superficie específica y concentración de enlaces superficiales en este; estos resultados permiten tener una idea de lo que caracteriza al material, considerando que estos dependen de varios factores durante la síntesis. La incorporación del óxido de titanio se llevó a cabo durante el proceso de síntesis del silicio poroso, este óxido se localiza sobre la superficie en aglomerados de acuerdo con los resultados de SEM y EDS. De esta forma la superficie del material presenta enlaces de tipo SiHx, TiOx, SiOH y SiOx de acuerdo con el resultado de FTIR que participan en la emisión del material.
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https://doi.org/10.1038/s41598-022-24661-0
Publicado
2024-04-11
Cómo citar
Nieto Caballero , F. G., Romano Trujillo, R., Gracia Jiménez, M., Rosendo Andres, E., & Sanchez Padilla, M. (2024). Aproximación de Parámetros Físicos en Silicio Poroso Infiltrado con Óxido de Titanio. Ciencia Latina Revista Científica Multidisciplinar, 8(1), 10970-10981. https://doi.org/10.37811/cl_rcm.v8i1.10408
Número
Sección
Ciencias Sociales y Humanas
Derechos de autor 2024 Fabiola Gabriela Nieto Caballero , Roman Romano Trujillo, Miguel Gracia Jiménez, Enrique Rosendo Andres, Minerva Sanchez Padilla
Esta obra está bajo licencia internacional Creative Commons Reconocimiento 4.0.
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